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A200便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀

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A200便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀

發(fā)布日期:2018-07-01 00:00 來(lái)源:http://qqhfy.com 點(diǎn)擊:

A200便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀

  ( 靈敏度高、操作便捷、低維護(hù)

 

A200便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀廣泛應(yīng)用于科研院所、航空航天、動(dòng)力鋰電池,閥門(mén)、精密儀表、機(jī)械加工、電力、電廠、光伏、真空鍍膜、真空熱處理等。

A200支持正壓檢漏,負(fù)壓檢漏,自動(dòng)跟蹤本底,提供快速可靠的測(cè)量結(jié)果,優(yōu)化設(shè)計(jì)的質(zhì)譜系統(tǒng)和智能算法確保在所有量程快速響應(yīng),高可靠性的真空系統(tǒng)和質(zhì)譜系統(tǒng)確??焖偾搴?,支持氮?dú)馄瓶眨皇墉h(huán)境氦氣干擾,快速降低本底,機(jī)器卓越的性能支持7*24小時(shí)長(zhǎng)時(shí)間在線(xiàn)測(cè)試,機(jī)器卓越的性能支持幾秒一次的高頻率測(cè)試,配有檢漏口精細(xì)過(guò)濾器,過(guò)濾細(xì)微雜質(zhì),確保機(jī)器不受雜質(zhì)影響和損傷,雙銥絲離子源,有效的系統(tǒng)設(shè)計(jì),防大氣沖擊,支持定制檢漏工作臺(tái),更加便捷使用。

 

A200.png

 圖1:A200便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀

 

一、技術(shù)規(guī)格

 

項(xiàng)目

描述

可檢測(cè)氣體

4He

最小可檢測(cè)漏率

真空法

<5x10-13pa.m3/s5x10-12mbar.L/s

吸槍法

<1x10-8pa.m3/s1x10-7mbar.L/s

檢測(cè)模式

Gross(粗檢), Fine(精檢), Ultra(超精檢)

檢測(cè)方法

真空(Vacuum),吸槍(Sniff)

入口法蘭

KF25

最大入口壓力

粗檢:15mbar

精檢:2mbar

超精檢:0.4mbar

分子泵抽速

2.5l/s (SplitFlow 80)

前級(jí)泵抽速

1.8m3/h旋片泵,內(nèi)置

響應(yīng)時(shí)間

真空(63% signal1s

吸槍?zhuān)?/span>3m):<1s

自檢

支持,內(nèi)置漏,帶證書(shū)

工作溫度

 10 ~ 40

工作電壓

115/230 VAC, 50/60 Hz

重量

45kg

功耗

400W

尺寸(mm

長(zhǎng)523 x510 x297

二、應(yīng)用領(lǐng)域(Application Scenarios)

◆科學(xué)研究:

Electron microscopy – 電子顯微鏡

Mass spectrometry – 質(zhì)譜

Surface analysis – 表面分析

Plasma monitoring – 等離子體監(jiān)測(cè)

Residual gas analysis – 殘余氣體分析

...

半導(dǎo)體

Lithography鋰電池

PVD /CVD

Plasma etching等離子刻蝕

MBE 分子束外延

鍍膜

Hard disk coating – 硬盤(pán)鍍膜

Photovoltaics – 光伏

Glass coating (PVD) – 玻璃鍍膜

Optical coating (PVD) – 光學(xué)鍍膜

Wear protection (PVD, CVD) –硬質(zhì)涂層

Web coating – 卷繞鍍膜

◆工業(yè)

Medical technology – 醫(yī)學(xué)技術(shù)

Industrial leak detection – 工業(yè)檢漏

Electron beam welding – 電子束焊接

Lamp /tube manufacturing – 燈管制造

Automobile –汽車(chē)制造

Aerospace-航天航空

科學(xué)研究

Nuclear research – 核研究

Fusion technology – 聚變技術(shù)

Plasma research – 等離子研究

Nanotechnology – 納米技術(shù)

Biotechnology – 生物技術(shù)

 

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