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廣州RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥標(biāo)準(zhǔn)漏孔,混氣組份N2:Xe:Kr:Ar:He:N2=1:1:1:1:1

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廣州RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥標(biāo)準(zhǔn)漏孔,混氣組份N2:Xe:Kr:Ar:He:N2=1:1:1:1:1

詳細(xì)介紹
RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥標(biāo)準(zhǔn)漏孔
Calibrated Leak Standards with Positive-Shut Off Zero-Volume Pneumatic Valve


實(shí)物照片:標(biāo)準(zhǔn)漏孔,帶RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥,氣體組份:Kr-84(>56atom%) :Xe-132(94atom%) :Ar-40:N2-28: He-4=1:1:1:1:1
RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥


特點(diǎn):
  1. 閥體死體積<0.1μL/系統(tǒng)零沖擊|極低氣體損耗&衰減 | 適合大漏率、超高真空、半導(dǎo)體、四極質(zhì)譜、昂貴氣體等場(chǎng)景
  2. 支持所有氣體/混氣:10-1 ~10-6mbar.L/s漏率定制,He, H2, D2, HD, N2, O2, Ar, Kr, Xe, Ne, CO2, CO, CH4...


RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥以及RMI-PSOZV?標(biāo)準(zhǔn)漏孔工作原理


睿米?自研RMI-PSOZV?主動(dòng)關(guān)閉零體積氣動(dòng)閥,結(jié)合RMI-Metal?金屬密封和RMI-MTC?微通道毛細(xì)管工藝,不使用時(shí)強(qiáng)制關(guān)閉閥門,標(biāo)準(zhǔn)漏孔的死體積(Dead Volume)<0.1μL(僅0.000098cm3),業(yè)界首創(chuàng),處于國(guó)際領(lǐng)先水平。
1.高真空或超高真空系統(tǒng)零沖擊RMI-PSOZV?閥的死體積(Dead Volume)僅為0.000098cc,僅為同類閥門死體積(~0.1~1cc)的1‰或更小,閥門打開時(shí)不會(huì)沖擊高真空或超高真空系統(tǒng)。 *死體積是指閥門關(guān)閉時(shí)漏孔與閥門關(guān)閉處的死空間,閥門關(guān)閉時(shí)漏孔繼續(xù)泄漏到死空間累積直至壓力平衡。所以常規(guī)閥門的標(biāo)準(zhǔn)漏孔會(huì)在關(guān)閉閥門一段時(shí)間后打開,死空間累積的氣體會(huì)瞬間釋放,沖擊真空系統(tǒng)。死體積越大每次開關(guān)閥門氣體損耗和漏孔衰減也越大。* 舉例說明:假定氣室體積1000cc,壓力為2Mpa: 常規(guī)閥門漏孔:死體積1cc,閥門關(guān)閉平衡后死空間累積氣體=1x20=20cc,打開閥門瞬間沖擊足以使高真空系統(tǒng)破壞、污染、或重啟,需要長(zhǎng)時(shí)間恢復(fù); RMI-PSOZV?漏孔:死體積0.000098cc,閥門關(guān)閉平衡后死空間累積氣體=20x0.000098=0.0196cc,不會(huì)對(duì)系統(tǒng)造成沖擊。


2. 自然衰減接近零自然衰減指閥門關(guān)閉時(shí),閥門自身的泄漏,和死體積造成的泄漏。 RMI-PSOZV?閥漏率小于<1x10-7atm.cc/sec@2Mpa,僅為常規(guī)氣動(dòng)閥泄漏率的1~5x10-6atm.cc/sec@2Mpa的1/10或更低。假定標(biāo)準(zhǔn)漏孔的氣室為1000cc,充氣壓力2Mpa,一年使用300次的氣體損耗對(duì)比: 常規(guī)氣動(dòng)閥漏孔:1~5x10-6*86500*365+1*20*300≈6000cc RMI-PSOZV?漏孔:1x10-7* 86500* 365 +0.000098 *20 *300≈9.1cc,近似零自然衰減。


3.極低衰減|漏率穩(wěn)定|多年免補(bǔ)氣|免維護(hù)RMI-PSOZV?漏孔不使用時(shí)閥門強(qiáng)制關(guān)閉、及接近于0的死體積設(shè)計(jì)(0.000098cc)的設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)氣體的最小損耗。 RMI-MTCTM微通道毛細(xì)管以及RMI-Metal?金屬密封工藝,區(qū)別于其他廠家如VTI 的PSO標(biāo)準(zhǔn)漏孔采用的為減少死體積采用的金屬壓扁(容易蠕變?cè)斐陕┞什粶?zhǔn)或堵塞)和PTFE密封(自身滲透漏率很大),可以做到漏率精確且穩(wěn)定,多年無(wú)需補(bǔ)氣、免維護(hù)。


4. 適合大漏率、高真空/超高真空、四級(jí)桿質(zhì)譜等場(chǎng)景,特別是需要使用昂貴氣體、保證氣體純度的場(chǎng)景(如Xe,Kr等同位素氣體)


5. 支持He, H2, D2, HD, N2, O2, Ar, Kr, Xe, Ne, CO2, CO, CH4, C2H6,…,等所有氣體,或混合氣(如Xe-132:Kr-84:N2:Ar:He=1:1:1:1:1:1, 客戶指定比例或提供的氣體)


相關(guān)標(biāo)簽:標(biāo)準(zhǔn)漏孔,漏孔,標(biāo)準(zhǔn)泄漏孔,標(biāo)準(zhǔn)泄漏塊,泄漏孔,氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔,氫氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔,正壓漏孔,真空漏孔,背壓式漏孔,冷媒漏孔,鹵素漏孔,He漏孔,H2漏孔,氣密性標(biāo)準(zhǔn)漏孔,空氣漏孔,Air漏孔,正壓氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔,正壓氫氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔,正壓He漏孔,正壓H2標(biāo)準(zhǔn)漏孔,模擬漏孔,仿真漏孔,模擬仿真漏孔,有源標(biāo)準(zhǔn)漏孔,開放式標(biāo)準(zhǔn)漏孔,無(wú)源標(biāo)準(zhǔn)漏孔,電池包標(biāo)準(zhǔn)漏孔,零流量標(biāo)準(zhǔn)漏孔,零流量漏孔,Air標(biāo)準(zhǔn)漏孔,氣密檢測(cè)漏孔,微通道標(biāo)準(zhǔn)漏孔,通道型標(biāo)準(zhǔn)漏孔,微通道毛細(xì)管標(biāo)準(zhǔn)漏孔,微通道毛細(xì)管漏孔,滲氦型標(biāo)準(zhǔn)漏孔,氦檢標(biāo)準(zhǔn)漏孔,

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